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지난 11월 13일~11월 16일 한국반도체디스플레이기술학회(KSDT) 주관으로 개최된 제 1회 KISM 2022(Korean International Semiconductor Conference on Manufacturing Technology 2022)에서 나노전자소자연구실(지도교수: 최병준) 소속의 석사과정 박주환 학생과 박막소자연구실(지도교수: 한정환) 소속의 석사과정 조현희 학생이 Nanoscale Thin Film Deposition session에서 각각 우수 포스터상(Best Paper Award)을 수상하였다.

KISM 2022는 KSDT가 20주년을 기념하여 개최하는 첫 반도체 국제학술대회로, 이번 학술대회는 대학·산업·연구소 내 연구진과 과학자들의 수준 높은 성과와 아이디어를 교류할 기회를 제공한다. 학술대회를 통해 학생들과 연구자 모두가 반도체 제조 기술 연구 개발연구와 연구에 도움이 될 최첨단 연구 성과를 발표하는 자리를 마련하고, 학문적 통찰력을 얻을 수 있도록 장려한다.

석사과정 박주환 학생은 ‘Thermal Analysis of Ovonic Threshold Switch Devices based on Various Chalcogenide Films'의 연구에서 스퍼터 및 원자층 증착법을 이용하여 ovonic threshold switch(OTS) 소자 제작 및 동작 과정에 대해 다양한 열 분석을 진행하였다. 이를 통해, OTS 소자의 동작 시 발생하는 열과 물성 관계에 대해 보고하였다.

석사과정 조현희 학생은 ‘Fabrication of Hf-Zr-O Based Ferroelectric Field Effect Transistor Using In-Ga-Sn-O Channel Layer by Atomic Layer Deposition’를 주제로 원자층 증착법을 이용하여 Hf-Zr-O(HZO) 기반의 FET을 제작 및 분석하였으며, HZO 강유전체 물질의 분극 정도에 따라 In-Ga-Sn-O(IGTO) 채널의 컨덕턴스 조절을 유도하는 연구를 진행하였다.